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マルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー ANL MMシリーズ

励起レーザーとして最適なマルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー:10 J @1064 nm |パルス幅:5 ns | 繰り返し周波数:10 Hz
高調波発生オプション有(第二、第三、第四高調波)

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ハイエナジーNd:Glassナノ秒レーザー ANL Nd:Glassシリーズ

各種励起光源、プラズマ物理学、衝撃物理学に最適
最大パルスエネルギー:160 J 1064 nm | パルス幅:(可変) 0.15 – 20 ns & 波形制御
オプション:高調波発生(第二、第三)、フロントエンド選択可

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高出力LD励起ナノ秒増幅システム ANL HPシリーズ

高繰り返し高エネルギーLD励起ナノ秒増幅システム
パルスエネルギー:2 J @100 Hz, 200 mJ @ 1 kHz1064 nm|パルス幅:5 ns
オプション:高調波発生(第二、第三高調波)、任意のパルス波形発生(1-50 ns

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パルス波形/幅任意制御高エネルギーNd:YAGレーザー ANL AWGシリーズ

OPCPA励起、レーザーピーニングに最適
最大パルスエネルギー:10 J 1064 nm | パルス幅:(可変) 1 – 20 ns & 波形制御
オプション:高調波発生(第二、第三)、パルス幅可変範囲拡張(0.15 – 500 ns

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高エネルギーフラッシュランプ励起ピコ秒増幅器 APL HEシリーズ

OPCPA、OPG、OPA励起に最適な増幅器
最大エネルギー:2.2 J1064 nm | パルス幅:90 ± 10 ps | 繰り返し周波数:10 Hz
オプション:高調波発生、パルス幅の仕様変更 (20 – 300 ps) 

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高繰り返しLD励起ピコ秒増幅器 APL HPシリーズ

様々な分光測定、リモートセンシングに最適な増幅器
最大繰り返し周波数:1 kHz | パルス幅:90±10 ps | 最大エネルギー:14mJ1064nm
オプション:高調波発生、パルス幅の仕様変更(20-300 ps)、繰り返し周波数2 kHz

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高パルスエネルギー色素レーザー LiopStar

LIF、フォトリシス、燃焼アプリケーションに最適
波長範囲 : 197 nm ~ 5 μm | 波長分解能 : <0.03 cm-1@570 nm
SHG、THG、DFMオプション有

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高繰返し色素レーザー LiopStar-HQ

最高100kHzの高繰返しに対応、燃焼アプリケーションに最適
波長範囲 : 430~900 nm | 波長分解能 : <0.06 cm-1@570 nm
高調波オプションあり

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冷却水不使用 ダイオード励起ナノ秒OPO Q-TUNE

LIFや光音響イメージング、分光アプリケーションに最適
波長 : 410~2300 nm (210nm~@SHG) | パルス幅 : <5 ns
エネルギー : 最大 5 mJ | 繰返し周波数 : 最大100 Hz | 完全空冷

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赤外用ダイオード励起ナノ秒OPO Q-TUNE-IR

赤外分光、センシングに最適
波長 : 1380~4500 nm | パルス幅 : <3~4 ns
エネルギー : 最大 6.5 mJ | 繰返し周波数 : 最大20 Hz | 完全空冷

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