ナノ秒レーザー

近赤外 ~ 中赤外の出力に特化したkHz波長可変レーザー
波長可変域：2500 ~ 4475 nm | パルスエネルギー：80 μJ@ 3000 nm| 線幅：< 10 cm^-1
繰り返し周波数：1 kHz |  PC or キーパッド制御

先駆的な特許取得技術による狭線幅10kHz波長可変レーザー
波長可変域：210 ~ 2600 nm | 平均出力：0.7 W以上@ NIR| 線幅：3 cm^-1
繰り返し周波数：10 kHz |  PC or キーパッド制御

コンパクトかつ高エネルギー（最大エネルギー1100 mJ）Nd:YAGレーザー
最大エネルギー：1100 mJ @1064 nm |パルス幅： 3-6 ns |最大繰り返し周波数：20 Hz
高調波発生オプション有（第二、第三、第四、第五高調波）

波長ギャップなしで広波長範囲の波長可変が可能
波長可変域 : 210~2600 nm | パルス幅 : ～7 ns | 波長制御 : PC or キーパッド
最大パルスエネルギー : 70 μJ＠450 nm  | 励起光源一体型

研究用途は勿論、加工用途にも最適
最大エネルギー：4 mJ @ 1064 nm |パルス幅：< 10 ns |最大繰り返し周波数：2500 Hz
低ランニングコスト | 高調波発生オプション有

LIBSやLIFなど、計測用途に最適
最大エネルギー：190mJ @1064nm |パルス幅：3-6 ns |最大繰り返し周波数：100 Hz
高調波発生オプション有

OPO、色素レーザー等の励起に最適
エネルギー : ~10 J@1064 nm | パルス幅 : 4-6 ns | 繰返し周波数 : 10 or 20 Hz
高調波発生オプション有

分光アプリケーション、リモートセンシングに最適
波長可変域：192 ~ 2600 nm | 線幅：< 5 cm^-1 （UV < 8 cm^-1）| パルス幅：2 – 5 ns 
パルスエネルギー：OPO >10 mJ, UV >1.3 mJ @ 100 Hz | PC or キーパッド制御

光学部品のテストに最適なシングルモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー：10 J @1064 nm |パルス幅： 2 - 25 ns  (標準：2 ns)
繰り返し周波数：10 Hz | 高調波発生オプション有（第二、第三、第四高調波）

励起レーザーとして最適なマルチモード高エネルギーQ-スイッチNd:YAGレーザー
最大エネルギー：10 J @1064 nm |パルス幅：5 ns | 繰り返し周波数：10 Hz
高調波発生オプション有（第二、第三、第四高調波）

各種励起光源、プラズマ物理学、衝撃物理学に最適
最大パルスエネルギー：160 J ＠ 1064 nm | パルス幅：(可変) 0.15 - 20 ns & 波形制御
オプション：高調波発生（第二、第三）、フロントエンド選択可

高繰り返し高エネルギーLD励起ナノ秒増幅システム
パルスエネルギー：２ J @100 Hz, 200 mJ @ 1 kHz（1064 nm）|パルス幅：5 ns
オプション：高調波発生（第二、第三高調波）、任意のパルス波形発生（1-50 ns）

OPCPA励起、レーザーピーニングに最適
最大パルスエネルギー：10 J ＠ 1064 nm | パルス幅：(可変) 1 - 20 ns & 波形制御
オプション：高調波発生（第二、第三）、パルス幅可変範囲拡張（0.15 – 500 ns）

完全空冷を実現 メンテナンスフリー
エネルギー : ~45 mJ@1053 nm | パルス幅 : 7-10 ns | 繰返し周波数 : ~50 Hz
高エネルギー安定性 : 0.5%@1064nm | 高調波発生オプション有

完全空冷 様々な用途に使用できる汎用モデル
エネルギー : ~80 mJ@1053 nm | パルス幅 : 5-10 ns | 繰返し周波数 : ~200 Hz
高エネルギー安定性 : 0.5%@1064nm | 高調波発生オプション有

完全空冷 高エネルギーモデル
エネルギー : ~100 mJ@1053 nm | パルス幅 : 6-7 ns | 繰返し周波数 : ~100 Hz
高エネルギー安定性 : 0.5%@1064nm | 高調波発生オプション有

完全空冷 高ピークパワーが必要な用途に最適
エネルギー : ~10 mJ@1064 nm | パルス幅 : <800ps~2 ns | 繰返し周波数 : ~100 Hz
高エネルギー安定性 : 1.2%@1064nm | 高調波オプション内蔵可能