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EKSPLA(リトアニア)

正規代理店

EKSPLA社はリトアニアの研究開発及び産業用レーザー、レーザーシステム及びレーザー部品を提供するメーカーです。特に、創業当初から生産しているピコ秒レーザーは各国での多くの実績があり、高い信頼性、性能を提供することができます。また、ナノ秒/フェムト秒レーザー等のパルスレーザーも提供しており、様々な用途に最適なレーザーを提案することが可能です。

製品一覧

OPCPA 波長可変フェムト秒レーザー UltraFlux FT300

フェムト秒ポンププローブなど、超高速アプリケーションに最適
波長可変範囲 : 750~960 nm or 700~1010 nm | 高調波オプション対応可
パルス幅 最短20 fs | 繰返し周波数 : 最大1 kHz | 最大エネルギー : 3 mJ

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高エネルギー OPCPAフェムト秒レーザー UltraFlux FF/FT5000

高エネルギーフェムト秒OPCPAシステム
繰返し周波数 : ~1 kHz | エネルギー : ~50 mJ | パルス幅 : 10~20 fs
高エネルギー安定性 : <1.5 %  | ハイコントラストパルス

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コンパクト フェムト秒シード光源 FFS

コンパクト フェムト秒用シード光源
パルス幅 : <130 fs | エネルギー: >250 nJ@250 kH | 繰返し周波数 : <200 kHz
フェムト秒パルス or Chirpパルス出射

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タッチパネル操作 小型フェムト秒レーザー FemtoLux3

レーザー加工やバイオイメージングなどに最適
エネルギー : 3 μJ(Single) / 10 μJ(Burst) | 繰返し周波数 : 最大5 MHz
パルス幅 : 300 fs~5 ps(可変) | バースト波形制御可能

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光音響用ダイオード励起OPO PhotoSonus X

光音響用に最適化された高性能光源
波長可変域 : 665~2600 nm | 繰返し周波数 : 100 Hz or 50 Hz
パルス幅 : 2~5 ns | エネルギー : 最大65 mJ | バンドルファイバー用出射

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高出力・可搬型 光音響用光源 PhotoSonus

光音響イメージング用光源
波長可変域 : 660~1064nm + 1065~2300 nm | 高出力 : ~250 mJ
繰返し周波数 : 10 Hz or 20 Hz | パルス幅 : 3~5 ns

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高エネルギー ダイオード励起ナノ秒YAGレーザー NL210

高S/N測定に最適
エネルギー : ~10 mJ@1064 nm | パルス幅 : 3-4 ns | 繰返し周波数 : ~1 kHz
高調波発生オプション有

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パルス波形/幅任意制御 ナノ秒YAGレーザー  NL940

OPCPA励起、レーザーピーニングに最適
エネルギー : ~10J@1064 nm | パルス幅 : 3~6 ns(可変) | 繰返し周波数 : 10 Hz

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小型・ファイバー出力ピコ秒レーザー FPS

増幅器用シードレーザー
エネルギー : ~50 nJ @1064 nm | パルス幅 : 9 +/- 1 ps(FPS200)
繰返し周波数 : 40 MHz +/- 2 MHz | 狭線幅 : 0.25 +/- 0.05 nm(FPS200)

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多チャンネル出力ピコ秒用増幅器 APL4206

多段OPCPA励起に最適
エネルギー : 130 mJ@1064 nm ×8ch | パルス幅 :90 ps +/-10 ps
繰返し周波数 : 1 kHz | DPSS増幅器

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高出力・広帯域 ピコ秒OPA PGx01

時間分解測定、分光アプリケーションに最適
波長可変域 : 193~16000 nm | 狭線幅 : <6cm-1 | パルス幅 : 30+/-5 ps
高ピークパワー : >50 MW | 自動波長制御

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高繰返し・広帯域 ピコ秒波長可変レーザー PGx03

高繰返しで高S/N比を実現
波長可変域 : 210~2300 nm | 繰返し周波数 : 1000 Hz | パルス幅 : ~20 ps
エネルギー : ~70 μJ | 波長制御 : PC or キーパッド

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励起光源一体型 高繰返しDPSSナノ秒波長可変レーザー NT2xx

分光アプリケーション、センシング測定に最適
波長可変域 : 192~12000 nm | 繰返し周波数 : ~1 kHz
パルス幅 : 4~6 ns,  <10 ns@NT270 | 制御:PC or キーパッド

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高出力・広帯域 ランプ励起ナノ秒OPO NT3xx

LIFやフラッシュフォトリシスなど、分光用途に最適
波長範囲 : 192~18000 nm | 最大エネルギー : 230 mJ | パルス幅 : 3-6 ns
高調波発生オプション有 | 完全PC制御

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広帯域・狭線幅 ピコ秒OPA PGx11

分光アプリケーション全般に最適
波長可変域 : 193~16000 nm | 狭線幅 : 0.8 cm-1~ | パルス幅 : 15 ps~
繰返し周波数 : 最大1000 Hz | 完全電子制御 PC+キーパッド

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励起光源一体型 ピコ秒OPO PT277

赤外域での分光、顕微鏡観察用光源に最適
波長可変域 : 1400~4500 nm | パルス幅 : 70 ps | PC制御 Labview制御可
最大出力 : >500 mW | 励起光源一体型

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SLM発振ナノ秒YAGレーザー NL120

LIF、ホログラフィー、センシングなどに最適なSLMレーザー
エネルギー : ~10 J@1064 nm | パルス幅 : 2 ns | 繰返し周波数 : ~10 Hz
狭線幅 : SLM発振 | 高調波発生オプション有

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コンパクトLD励起ナノ秒YAGレーザー NL200

研究用途は勿論、加工用途にも最適
エネルギー : ~4 mJ@1064 nm | パルス幅 : <10 ns | 繰返し周波数 : ~2500 Hz
低ランニングコスト | 高調波発生オプション有

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コンパクト・高出力 ランプ励起ナノ秒YAGレーザー NL300

コンパクトかつ高エネルギー(~1200mJ)
エネルギー : ~1200 mJ@1064 nm | パルス幅 : 3-6 ns | 繰返し周波数 : ~20 Hz
高エネルギー安定性 : 1%@1064nm | 高調波発生オプション有

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パルス幅可変ランプ励起ナノ秒YAGレーザー NL740

LIDTなどの用途に最適なレーザー
エネルギー : ~100 mJ@1064 nm | パルス幅 : 3-10 ns (可変) | 繰返し周波数 : ~100 Hz
狭線幅 SLM動作 | 24h/7d動作可能

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