製品情報
タッチパネル操作 小型フェムト秒レーザー FemtoLux3
製品詳細
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分野
- レーザー加工
- イメージング
- バイオ・ライフサイエンス
- その他
メーカー
EKSPLA（リトアニア）
正規代理店概要
レーザー加工やバイオイメージングなどに最適
エネルギー : 3 μJ(Single) / 10 μJ(Burst) | 繰返し周波数 : 最大5 MHz
パルス幅 : 300 fs~5 ps(可変) | バースト波形制御可能
特長
FemtoLux 3はR&Dや産業用途に最適化された最新のフェムト秒レーザーです。
パルス幅は300 fs~5 psの範囲で可変、繰返し周波数は最大5MHz(調整可能)です。エネルギーは最大3μJ@1030nmで出力可能、調整も可能なため用途に合わせて最適化することも可能です。透明材料のマーキングや構造化、非線形顕微鏡などに最適なレーザーです。
■ パフォーマンス
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| 1030nm PRR vs エネルギー 出力 | 515nm PRR vs エネルギー 出力 | パルス幅代表値@1030nm |
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| 1030nm PRR vs エネルギー 出力 (パルスピッカー_1MHz) |
室温 vs 出力 |
仕様
■ 仕様：FemtoLux3
| Model *1 | FemtoLux 3 | |
|---|---|---|
| 波長 | 基本波 | 1030 nm +/- 2 nm |
| 2倍波 | 515 +/- 1 nm | |
| パルス幅@1030 nm | <300 fs (Typical ~230 fs) | |
| パルス幅可変範囲 | 300 fs ~ 5 ps | |
| 最大出力 *2 | 基本波 | >3 W |
| 2倍波 | >1.5 W | |
| 長時間出力安定性 (Std Dev) *3 | ≦0.5 % | |
| 最大エネルギー *2 | 基本波 | >3 μJ |
| 2倍波 | >1.5 μJ | |
| エネルギー安定性 *4 | <2 % | |
| 繰返し周波数 (PRR) *5 | 1~5 MHz | |
| 繰返し周波数 (パルスピッカー) | PRR/N 最小10 kHz | |
| 外部ゲート信号 | TTL | |
| バースト数 *6 | 1~10 pulses | |
| 最大バーストエネルギー | 基本波 | >10 μJ |
| 2倍波 | >5 μJ | |
| バースト波形コントロール | アナログ信号 | |
| パワー調整 | 0~100 % (リモート or アナログ) | |
| 偏光 | Vertical | |
| 偏光比 | >1000:1 | |
| M2 | <1.2 | |
| ビーム拡がり角 | <1.0 mrad | |
| ビーム対称性 | >0.85 | |
| ビーム位置安定度 (peak to peak) *7 | <30 μrad | |
| ビーム径 (1/e2,出射から20cm位置) | 基本波 | 2.0 +/- 0.3 mm |
| 2倍波 | 1.0 +/- 0.2 mm | |
| 使用環境 | ||
| 電圧 | 100 240 V AC 単相 47~63 Hz | |
| 消費電力 | <500 W | |
| 使用環境温度 | 15~30 ℃ | |
| 湿度 | 10~80 % (結露なきこと) | |
| クリーンレベル | ISO 9(room air) or better | |
| その他仕様 | ||
| 冷却 | 空冷, Passive | |
| レーザーヘッドサイズ | 基本波 | 464×363×129 mm |
| 2倍波 | 620×363×129 mm | |
| 電源サイズ | 449×436×140 mm (Stand-alone) or 583×436×140 mm (19" rack) |
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| umbilical length | 5m | |
| レーザークラス | CLASS 4 | |
*2： 各繰返し周波数でのエネルギー・出力はグラフを参照。
*3： 暖機後、1 MHzでの24時間測定値。使用環境一定。
*4： 1 MHzでの測定値。測定環境一定。 *5： パルスピッカーの設定による。
*6： 20 nsのバーストパルスに内部で分けられます。 *7： 位置安定度は集光時のビーム中心位置の値です。
各資料
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