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高輝度真空紫外光源 E-Lux

製品詳細

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分野

  • 計測
  • その他

メーカー

excitech GmbH(ドイツ)

正規代理店

概要

光イオン化源と質量分析、光物理・光化学用途に最適なVUV光源
中心放射波長 116~172 nm | パルス/CW動作設定可
高輝度・高安定出力 | 微小焦点スポット ~3 mm


特長

真空紫外光源 E-Lux™は、高純度の希ガスまたは高圧の希ガス混合物を低エネルギーの電子ビームで励起し、発光させるVUV光源です。
輝度と柔軟な性能により、E-Lux™はあらゆる光物理および光化学の用途に役立ちます。


・高輝度
・高安定出力
・微小焦点スポット
・パルス/CW動作設定可
・高い繰り返し周波
・長寿命  
・冷放射のためサンプルの加熱なし
・高効率、低エネルギー消費
・コンパクト設計
・取り扱い容易


■ 用途
・イオン移動度用の光イオン化源と質量分析
・物理学および光化学研究
・ラボでのシンクロトロン実験の計画 •表面処理と分析
・医療用途


■ 高輝度・高出力
E-LuxTM真空紫外(VUV)光源は、最大2x1016 photon/(s sr nm cm2) (@CW発振) の総光子束と1 mm3未満の小さな照射スポットにより、要求の厳しい用途向けの理想的なVUV光源です。
パルスモードで作動作させる場合、輝度は100倍程度増加します。使いやすいユーザーインターフェースにより、放射光強度を簡単に調整できるので、最適な実験条件を選択できます。
直径わずか1 mmの小さな照射スポットにより、ターゲット領域に高精度で簡単に焦点を合わせることができます。
アクセス可能な大きい放射角は、高い光子束を提供し、独自の光学系を使用する際の最大限の柔軟性を提供します。
再焦点には、オプションアクセサリの集光光学系ユニット E-LuxTM EEMが使用できます。E-LuxTM EEMは、標準の真空フランジによってE-LuxTMおよびユーザーの光学セットアップに簡単に取り付けることができます。

※図:E-LuxTM 126
焦点距離f = 120 mmの集光光学系ユニット E-LuxTM EEMを使用したターゲットサイトでの強度分布


■ パルス/CW動作設定
E-LuxTMは、CWおよびパルスモードで動作できます。 パルスモードでは、ユーザーは単一パルスと最大10 kHzの繰り返し周波数による動作を設定できます。
繰り返し周波数に応じて、パルス長は1〜100 µsと1 ms〜cwの間に設定できます。 コンピューター制御の電源により、内部および外部パルス(ロックイン、パルスプローブなど)も可能です。

※図:E-LuxTM 126
繰り返し周波数とパルス長の異なる設定の光強度

■ 高効率・コンパクト
E-LuxTMには、優れた光変換効率が備わっているので、高性能でありながらエネルギー消費が少ないコンパクトな設計になります。
水冷の必要がないため、VUV光源はモバイルアプリケーションにも適します。


■ 放射特性
中心発光波長が116〜172 nm(7.2〜10.7 eV)の5種類のモデルから選択できます。E-LuxTM 121を除き、VUV放射は希ガスまたは希ガス混合物のエキシマー放射で構成されます。さまざまなE-LuxTMモデルによって提供されるVUV放射の光子エネルギーの範囲は、多くの有機化合物のイオン化ポテンシャル(通常7~12 eV)と、選択した分子結合の解離エネルギーに対応します。
E-LuxTMとE-LuxTM VUVランプの優れた性能により、質量分析またはイオン移動度分光分析と組み合わせた一光子イオン化(SPI)に最適です。
また、E-LuxTM VUVランプは、基本的な光物理研究または材料科学の分野でも用途があります。

E-LuxTMの各モデルの発光スペクトル 有機化合物のイオン化ポテンシャル (IP) の例


■ 高安定出力
電子ビームによる誘導発光では、他の商用VUVランプでよく知られている電極の焼損などに起因する問題を防ぎ、ランプ寿命内では光出力は高い安定性を保ちます。
さらに、アークポイントのシフトによる光軸の再調整をする必要がないため、空間的・時間的に非常に安定した発光が得られます。

E-Lux™126の光強度の短時間安定度 (秒単位安定度) E-Lux™126の光強度の長時間安定度 (時間単位安定度)

■冷放射
E-LuxTMは、VUVの冷放射の発光を特長としており、熱影響がありません。熱に敏感なサンプルの測定に大きな利点を持ちます。


■専用ソフトウェア
E-LuxTMソフトウェアは、E-LuxTM VUVランプシステムの使いやすく安全な操作を可能にします。
ユーザーは以下のパラメーターを設定できます。
・ビーム強度   ・動作モード   ・パルス幅
・繰り返し周波数   ・トリガー設定

電子線管に印加される電圧などのパラメーターは自動的に制御されます。不適切な設定によるシステム損傷を防ぎます。
すべてのランプパラメータは、個別の情報ウィンドウで監視されます。


■装置構成
① 専用電源 E-Lux EPU
専用電源 E-LuxTM EPUは、安全で信頼性の高い動作のためのすべての要件を満たし、E-LuxTM VUVランプを動作させます。
この電源は全てのモデルのE-LuxTM 光源ヘッドと一緒にお使い頂けるので、光源ヘッドを交換することで、1台の電源で多種の波長に対応することが可能です。

② 集光光学系ユニット E-Lux EEM
集光光学系の使用により、ターゲット上の集光スポットの光子密度を大幅に増加させることができます。
集光光学系ユニット E-LuxTM EEMは、1:1のイメージング比を持つ90°楕円ミラーを使用しています。標準のE-LuxTM EEMは、焦点距離 f = 120 mm向けに設計されています。 
E-LuxTM EEMは、真空の動作条件下でマニュアルのXY調整を可能にします。ISO KFフランジ (オプション:CFフランジ) が装備され、バイトンリングで密封されています。 4x10^-8 mbarの圧力まで排気できます。
集光光学系ユニットE-LuxTM EEMは、他の焦点距離の変更も含め、ご要望に応じて設計および製造も対応致します。ご相談ください。

専用電源 E-Lux EPU 集光光学系ユニット E-Lux EEM

仕様

■ 基本仕様 : 

型名 E-Lux™ 116E-Lux™ 121E-Lux™ 126E-Lux™ 147E-Lux™ 172
中心放射波長 (nm)116121.56126147172
FWHM (nm)< 1< 3 x 10-3101010
光子エネルギー (eV)10.710.29.88.47.2
最大スペクトル光輝度
(photons / (s sr nm cm2 ))
CW2 x 10142 x 10182 x 10162 x 10162 x 1016
パルス2 x 10162 x 10202 x 10182 x 10182 x 1018
最大変換効率 (%)0.410404040
光スポット径 (mm)13111
立体角 (sr)1
開口径 (mm)10
パルス長1 ~ 100 µs および 1 ms ~ CW
繰り返し周波数最大10 kHz
寿命時間 (typical)1000
窓材質MgF2
冷却方式空冷
動作環境室温 : 5 ~ 50 ℃, 湿度 : 10 ~ 80 %
重量 (kg)4.2
電源E-Lux™ EPU
インターフェースUSB 2.0
標準フランジISO KF40
オプションアクセサリE-Lux™ EEM光学モジュール
(標準焦点距離120mmまたは150mm)


各資料

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