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AFM/SPM校正用グレーティング

製品詳細

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分野

  • 分析・検査
  • 計測
  • イメージング
  • バイオ・ライフサイエンス
  • 教育

メーカー

Tipsnano(エストニア)

正規代理店

概要

AFM/SPMの各種校正や評価にお使いいただける校正用グレーティング
豊富なラインナップ 9種類 | XYZ軸校正やティップ形状評価など
低価格 | 数のグレーティングをまとめた安価なセットあり


特長

原子間力顕微鏡(AFM)、走査型プローブ顕微鏡(SPM)の各種校正や評価にお使いいただける校正用グレーティングです。校正の種類や評価に応じて、適切なグレーティングをご選択頂けます。
より安価でご案内できる、複数のグレーティングをまとめたセットもございます。


・豊富なラインアップ 9
・XYZ軸校正やティップ形状評価など
・低価格
・複数のグレーティングをまとめた安価なセットあり


仕様

■校正用グレーティングモデル

ModelTGZ1
Application・Z軸校正用
Structurestep - SiO2, bottom – Si

Pattern type2-Dimensional
Period3 ± 0.05 µm
Height20,0 ± 1.5 nm*
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm
ModelTGZ2
Application・Z軸校正用
Structurestep - SiO2, bottom - Si

Pattern type2-Dimensional
Period3 ± 0.05 µm
Height110 ± 2 nm*
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm
ModelTGZ3
Application・Z軸校正用
Structurestep - SiO2, bottom - Si

Pattern type2-Dimensional
Period3 ± 0.05 µm
Height520 ± 3 nm*
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm
ModelTGZ4
Application・Z軸校正用
Structurestep - SiO2, bottom - Si

Pattern type2-Dimensional
Period3 ± 0.05 µm
Height1517 ± 20 nm*
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm
ModelTGQ1
Application・XYZ軸の同時校正用
・スキャナーの水平校正
・水平ノンリニアリティ、ヒステリシス、クリープ、
 クロスカップリングエフェクトの検出
Structurestep - SiO2, bottom - Si

Pattern type3-Dimensional array of rectangulars
Period3 ± 0.05 µm
Height20 ± 1.5 nm*
Rectangles side size1.5 ± 0.35 µm
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm

(* 300個のバッチから取り出した5個のステップ高の平均値を仕様に用いているため、ステップ高の仕様数値がバッチごとに変更されます。仕様数値の±10%を公差としています。)

ModelTGT1
Application・AFM/SPMプローブのティップの形状と鋭さの評価
・ティップの劣化・汚染防止
Structurethe grating is formed on Si wafer top surface

Pattern type3-D array of sharp tips
Period3 ± 0.05 µm
Height0.3 - 0.5 µm
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 2 x 2 mm
Tip angle50 ± 10 degrees (on the very tip end)
Tip curvature radius≤ 10 nm
Diagonal period2.12 µm
ModelTGG1
Application・X軸またはY軸の校正
・水平または垂直スキャナーのノンリニアリティ検出
・角変形の検出
・ティップ特性評価
StructureSi

Pattern type1- D array of triangular steps (in X or Y direction)
having precise linear and angular sizes
Period3 ± 0.05 µm
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm
Edge angle70 degrees
Edge radius≤ 10 nm
ModelTGX1
Application・水平スキャナーの校正
・水平ノンリニアリティ、ヒステリシス、クリープ、
クロスカップリングエフェクトの決定
・ティップの鋭さの決定
StructureSi

Pattern typechessboard-like array of square pillars with sharp undercut edges
Period3 ± 0.05 µm
Height~ 0.6 µm
Chip size5 x 5 x 0.5 mm
Effective areacentral square 3 x 3 mm
Edge curvature radiusless then 10 nm
ModelTDG01
Application・X軸またはY軸の校正 (278nm period)
Structurethe grating is formed on the chalcogenide glass coated by Al

Pattern typeparallel ridges in X or Y direction, 1-Dimensional
Period278 ± 1 nm
Height> 55 nm
Chip sizediameter 12.5 mm, thickness - 2,5 mm
Effective areacentral diameter 9 mm

■ グレーティングセット

グレーティングセット内容
TGS1
TGZ1、TGZ2、TGZ3
TGS2
TGZ1、TGZ2、TGZ3、TGT1、TGG1、TGX1
TGS1FTGZ1、TGZ2、TGZ3、TGZ4
TGSFull
TGZ1、TGZ2、TGZ3、TGQ1、TGT1、TGG1、TGX1、TDG01
TGS1_PTBTGZ1、TGZ2、TGZ3
(PTB校正証明書付き)


各資料

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