その他

多層誘電体コートした高反射率デュアルバンドレーザーラインミラー
高反射率　> 99.5％　|　使用角度　45°または0°
波長別　8種類　|　サイズ　Φ12.7～76.2 mm

BK7に誘電体コートした高反射率レーザーラインミラー
高反射率 > 99.5％　|　使用角度　45°または0°
波長別　17種類　|　Φ12.7～76.2 mmサイズ

UV溶融石英(UVFS)に誘電体コートした高反射率レーザーラインミラー
高反射率 > 99％　|　使用角度　45°または0°
波長別　14種類　|　Φ12.7～76.2 mmサイズ

光イオン化源と質量分析、光物理・光化学用途に最適なVUV光源
中心放射波長　116～172 nm　|　パルス/CW動作設定可
高輝度・高安定出力　|　微小焦点スポット　～3 mm

常光線を透過・異常光線を屈折させる偏光プリズム
広い波長範囲　200～3500 nm　|　優れた消光比　1：10^-5

入射ビームを2つの直交偏光する発散ビームに分割
広い波長範囲 　350～2200 nm　|　優れた消光比 　1：10^-5
サイズ　10ｘ10～14ｘ14 mm　|　ビーム分離　ϕ-10°、ϕ-20°

レーザー用途に優れた偏光ビームスプリッター
反射率(S偏光)　>99％　|　透過率(P偏光)　>90％
サイズ　10ｘ10～20ｘ20mm　|　豊富な波長ラインナップ

高いダメージ耐性を持つ高出力アプリケーション用偏光ビームスプリッター
優れたダメージ閾値　|　高い消光比
4面に反射防止コートあり　|　優れた表面品質

多くの優れた特徴を持つ、レーザー光の波長変換用にも使用可能なBBO結晶ラインナップ
広い透過波長範囲　|　大きな非線形係数
高いダメージ閾値　|　高い光学的均一性

多くの優れた特徴を持つ、レーザー光の波長変換用にも使用できるLBO結晶ラインナップ
広い透過波長範囲　|　小さなウォークオフ角
高いダメージ閾値　|　高い光学的均一性

レーザー光の波長変換やQスイッチングなどに使用可能な非線形光学結晶
優れた非線形光学系数　|　高いダメージ閾値

優れた非線形光学系数を持つ、主に外部共振器に広く使用されるKTP結晶ラインナップ
広い透過波長範囲　|　大きな非線形光学係数
広い許容角　|　小さなウォークオフ角

ツェルニターナ型を採用した高スループット・高分解能の高性能分光器
焦点距離　20、35、52、75 cm　|　非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚搭載可能　|　出射ポート　最大2

上下2段に異なるグレーティングを搭載した2つの独立したスペクトルチャンネルを持つ分光器
独立駆動の2段グレーティング　|　2つの独立したスペクトルチャンネル
幅広い波長域と高波長分解能の同時測定可能　|　出射ポート 2

高波長分解能・低迷光・高F値を誇る高性能ダブル分散分光器
焦点距離　2×500 mm　|　非点収差を抑えたイメージングモデルあり
グレーティング 最大4枚(2×2ペア)同時搭載可能　|　低迷光

2つの対物レンズを持つ水平対称構成でデザインされたイメージング分光器
焦点距離 約100 mm　|　非点収差・色収差を抑えたレンズ光学系を採用
高イメージング性能　|　高スループット F値　F/3.3

高分解能・高安定性に優れたシリコンセンサーを搭載したピエゾステージ
1軸：Ｚ〜500 (μm) 　|　Ｘ〜1500 (μm) 　|　Θ〜5、10ｍrad
クローズドループ制御　　|　対物レンズ装着型　|　ウェルプレート対応型

高分解能・高安定性に優れたシリコンセンサーを搭載したピエゾステージ
XYストローク：10×10 (μm) 〜 600×600 (μm) 　|　クローズドループ制御　
薄型モデル　|　大開口付きモデル　|　２軸チルトモデル

高分解能・高安定性に優れたシリコンセンサーを搭載したピエゾステージ
XYZストローク：30×30×５(μm) 〜 300×300×300 (μm)
クローズドループ制御　|　薄型モデル　|　大開口付きモデル

レーザー光の偏光状態を電圧印加で制御可能な電気光学結晶
対応中心波長　1064nm, 1030nm, 800nm　|　開口部　Φ2.5～7 mm
透過率　> 98％　|　コントラスト比　>1：500または> 1：1000