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タッチパネル操作・小型フェムト秒レーザー FemtoLux3

製品詳細

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分野

  • レーザー加工
  • イメージング
  • バイオ・ライフサイエンス
  • その他

メーカー

EKSPLA(リトアニア)

正規代理店

概要

レーザー加工やバイオイメージングなどに最適
エネルギー : 3 μJ(Single) / 10 μJ(Burst) | 繰返し周波数 : 最大5 MHz
パルス幅 : 300 fs~5 ps(可変) | バースト波形制御可能


特長

FemtoLux 3はR&Dや産業用途に最適化された最新のフェムト秒レーザーです。
パルス幅は300 fs~5 psの範囲で可変、繰返し周波数は最大5MHz(調整可能)です。エネルギーは最大3μJ@1030nmで出力可能、調整も可能なため用途に合わせて最適化することも可能です。透明材料のマーキングや構造化、非線形顕微鏡などに最適なレーザーです。


■ パフォーマンス

1030nm PRR vs エネルギー 出力 515nm PRR vs エネルギー 出力 パルス幅代表値@1030nm

1030nm PRR vs エネルギー 出力
(パルスピッカー_1MHz)
室温 vs 出力

仕様

■ 仕様:FemtoLux3

Model *1FemtoLux 3
波長基本波1030 nm +/- 2 nm
2倍波515 +/- 1 nm
パルス幅@1030 nm<300 fs (Typical ~230 fs)
パルス幅可変範囲300 fs ~ 5 ps
最大出力 *2基本波>3 W
2倍波>1.5 W
長時間出力安定性 (Std Dev) *3≦0.5 %
最大エネルギー *2基本波>3 μJ
2倍波>1.5 μJ
エネルギー安定性 *4<2 %
繰返し周波数 (PRR) *51~5 MHz
繰返し周波数 (パルスピッカー)PRR/N 最小10 kHz
外部ゲート信号TTL
バースト数 *61~10 pulses
最大バーストエネルギー基本波>10 μJ
2倍波>5 μJ
バースト波形コントロールアナログ信号
パワー調整0~100 % (リモート or アナログ)
偏光Vertical
偏光比>1000:1
M2<1.2
ビーム拡がり角<1.0 mrad
ビーム対称性>0.85
ビーム位置安定度 (peak to peak) *7<30 μrad
ビーム径 (1/e2,出射から20cm位置)基本波2.0 +/- 0.3 mm
2倍波1.0 +/- 0.2 mm
使用環境
電圧100 240 V AC 単相 47~63 Hz
消費電力<500 W
使用環境温度15~30 ℃
湿度10~80 % (結露なきこと)
クリーンレベルISO 9(room air) or better
その他仕様
冷却空冷, Passive
レーザーヘッドサイズ基本波464×363×129 mm
2倍波620×363×129 mm
電源サイズ449×436×140 mm (Stand-alone)
or
583×436×140 mm (19" rack)
umbilical length5m
レーザークラスCLASS 4
*1: 改善のため予告なく仕様が変更される場合があります。また、本仕様は代表値であり、各ユニット毎に異なります。
*2: 各繰返し周波数でのエネルギー・出力はグラフを参照。
*3:  暖機後、1 MHzでの24時間測定値。使用環境一定。
*4: 1 MHzでの測定値。測定環境一定。 *5: パルスピッカーの設定による。
*6: 20 nsのバーストパルスに内部で分けられます。 *7: 位置安定度は集光時のビーム中心位置の値です。


各資料

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